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由于产品技术升级,此型号已经停产,请用户见谅!

替代型号为: TM608高精度膜厚监测仪

 

 

 

用途和特点
该款膜厚监测仪为沈阳赛恩斯有限公司研发和制造。它主要是用于真空设备在蒸发、
磁控溅射、直流溅射等镀膜过程中, 动态地监测膜层的几何厚度、沉积速率等参数的专用
仪器。该款监测仪具有同步检测通道多,测量数据准确、稳定、一致性好、显示直观、操
作方便等特点。本款监测仪可以很方便地通过键盘或串口对测量门控时间、材料、速率算
法、比例因子等进行设置。测量周期可在0.1-1 秒间进行选择,以适应高精度或高速率的
不同需求。监测过程中可以通过串口实时地对设备实时进行数据采集、启动、停止等控
制,为远程监测和镀膜控制提供了方便。本款监测仪还配有与速率成正比的0-10V 的同步
输出,为用户对镀膜速率的监视和和控制提供了方便,膜厚监控仪采用插卡式结构,可选
配成2 通道,4 通道,6 通道和8 通道。串口可以根据用户的要求选配232、485 等不同协
议的接口。

产品特点:
1、超高精度测量。采用自有知识产权的高精度测频技术,频率测量分辨率:0.002Hz/s。 
2、插卡式结构: 采用插卡式结构,可插入4块测量卡(2通道/卡)、输出输出卡、电源卡等, 方便维护与升级。 
3、具有模拟量输出接口,通过调节仪可对镀膜源进行控制,构建镀膜速率闭环控制系统,对镀膜速率进行精确控制。
4、界面友好易操作。采用蓝背光大屏幕液晶显示,大键盘操作。 
5、挡板控制。6路开关量输出,可外接源挡板,可对挡板进行控制。
6、计算机控制: 可直接连接计算机使用,由计算机控制和显示,并可将测量数据导入Excel表。 随机提供计算机测试软件。一台计算机可接多台膜厚仪。


注:本产品最新升级改进型号为:TM606A




 技术指标

晶体频率: 6MHz(新晶体)~5MHz 
频率分辩率: 0.002Hz 
膜厚分辩率: 0.0088Å(铝) 
膜厚准确度: 0.5%典型,取决于过程条件,特别是传感器的位置,材料应力,温度和密度 
频率测量精度: 0.01Hz 
膜厚测量精度: 0.01Å 
速率测量精度 0.01Å/S 
测量速率: 1~10次/S 
测量通道数量: 6通道
标配探头一只
用户界面: 5.1英寸蓝背光LCD显示器,全功能数字键盘 
计算机通讯: RS232或RS485 
最大外型尺寸: 483×133 ×260mm(宽×高×深)


用户手册:

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