设备用途:
本镀膜机主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真
空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。具有如下特点:
磁控溅射和电阻蒸发双应用。本机采用可磁控溅射与电阻蒸发免拆卸转换
结构,可快速实现蒸发源的转换。
桌面小型一体化结构。本机对真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设
计,体积与一台A3 打印机相仿(不包含真空机组,480x320x460mm,宽
X 高X 深)
单、三靶溅射。本机的磁控溅射单元装有三支2 英寸磁控靶或一支3 英寸
磁控靶。以适应不同用户的需求。三靶溅射单元装有靶挡板及靶切换半开
关,并与挡板联动。
高性能开关式直流溅射电源。本机配装我公司自行研制的高性能溅射用直
流电流,由于采用开关电源所以对溅射过程中产生的弧光放电具有非常强
的抑制作用;电源还具有恒流和恒功率两种溅射工作方式,以适用不同用
户的需求。
双蒸发源。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源,适应相应
的镀膜材料。
高稳定度恒流蒸发电源。本机配装0.1%精度蒸发电源,并具有恒流输出功
能,对蒸发舟能起到很好的保护作用。
镀膜厚度与速率控制。本镀膜机可选配本公司研制石英晶体膜厚控制仪,
在镀膜过程中可对镀膜速率和膜层厚度进行控制。
数据记录。镀膜机可将采集到的镀膜数据保存到U 盘,便于用户分析控制(选
配)。
模块化设计。本机将所有功能单设计成标准化模块,根据用户不的需求对
相应模块进行组合。以达到最优化的镀膜环境。并便于用户维修与维护。
图形化操作界面及触屏控制。本机操作控制采用7 英寸TFT 显示屏显示操
作界面,触屏操作,实现全图形化界面,易用易懂。
二、 技术指标:
供电电压: AC220V/2000W
溅射电源功率: 500W/600V
溅射靶规格: 2 英寸/3 支(带挡板)或3 英寸1 支
蒸发电源功率: 1000W/5V/200A
蒸发电极有效距离: 55mm
样品台规格: 直径150mm(可选配旋转、挡板和偏压功能)
膜厚测量精度: 0.1Å 或0.01Å(高精度型)
充气流量: 50SCCM/100SCCM(两路选配)
气源压力: <0.15KPa
外接真空机组: 2 升(AC220V)可选配国产扩散泵机组、国产110 机组或进口机组。
真空接口规格: KF40
极限真空度: >2.0x10-3Pa、2.0x10-4Pa
工作真空度: 3~0.5Pa(磁控)
冷却水压力: 0.2~0.4Kpa
使用环境温度: <35℃
使用环境湿度: <75%(相对湿度)不结露
使用环境海拔: <1500m
外型尺寸: 480x320x460(宽x 高x 深)不包含真空泵
重量: 约47Kg 不包含真空泵
设备标准配置及价格
序号
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设备名称
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型号
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数量
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1
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真空机组(国产扩散泵)
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110升
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1套
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2
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真空计
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大气~1.0x10-5 Pa
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1台
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3
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充气用高精度微调针阀
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Ø6mm卡套
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1台
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4
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放气阀
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Ø6mm卡套
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1台
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5
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溅射直流电源(开关型)
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SI-DC500
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1台
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6
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蒸发电源AC5V/200A
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SI-ZF1000
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1台
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7
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系统控制器和触屏
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自制
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1套
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8
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膜厚仪(0.1Å/铝)
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SI-TM106
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1台
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9
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单磁控靶单元
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3英寸
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1支
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10
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蒸发舟
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有效距离>55mm
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两套
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11
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真空腔体(石英管)
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Ø180mmX180mm
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1套
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12
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升降机构
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1套
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13
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机箱
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1套
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14
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抽气管路
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1套
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15
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可调高度样品台
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Ø160mm
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1套
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16
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17
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18
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合计价格(不含税)
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设备可选配置及价格
序号
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设备名称
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型号
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数量
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价格
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1
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换装:真空机组(进口分子泵)
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1套
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换装:国产分子泵机组
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1套
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2
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换装:三靶磁控溅射单元(带挡板,及靶选择开关)
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1套
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3
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样品台增加自转功能
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1套
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4
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样品台增加加热功能(含温控电源±1℃)
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室温~500℃
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1套
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5
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样品台增加偏压功能(含电源)
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0~600V/1A
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1套
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6
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换装:RF溅射电源(自动调谐)
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SI-RF600
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1台
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7
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换装:高精度膜厚仪(0.01Å/铝)
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SI-TM600
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1台
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8
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增加:流量控制器(国产)最多2台
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50SCCM/100SCCM
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1台
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9
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流量显示仪
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SI-MF640
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1台
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10
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换装:金属真空腔体(带观察窗)
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1套
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11
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增加数据存储及导出功能
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系统结构框图
3英寸磁控靶 铝靶,溅射区
蒸发电极
样品台