产品简介：

本镀膜机主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。具有如下特点：

a)     电阻式双蒸发源。本机采用电阻式双蒸发源结构，可快速实现蒸发源的转换。

b)     桌面小型一体化结构。本机对真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计，体积与一台A3打印机相仿（不包含真空机组，440x240x260mm，宽X高X深），可放到手套箱中使用。

c)     双蒸发源。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源，适应相应的镀膜材料。

d)     高稳定度恒流蒸发电源。本机配装0.1%精度蒸发电源，并具有恒流输出功能，对蒸发舟能起到很好的保护作用。

e)     镀膜厚度与速率控制。本镀膜机可选配本公司研制石英晶体膜厚控制仪，在镀膜过程中可对镀膜速率和膜层厚度进行控制。

f)      数据记录。镀膜机可将采集到的镀膜数据保存到U盘，便于用户分析控制(选配)。

g)     模块化设计。本机将所有功能设计成标准化模块，根据用户不的需求对相应模块进行组合。以达到最优化的镀膜环境。并便于用户维修与维护。

h)     图形化操作界面及触屏控制。本机操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。

技术指标

供电电压：         AC220V/50Hz/1500W

蒸发电源功率：     1000W/5V/200A

蒸发电极有效距离： 50mm

样品台规格:        直径100mm(可旋转)

膜厚测量精度：     0.1Å或0.01Å（可选配高精度型）

外接真空机组:      扩散泵机组、可选配国产110机组或进口机组。

真空接口规格：    KF40

极限真空度:        >3.0x10^-3Pa（扩散泵）、3.0x10^-4Pa（分子泵）

工作真空度:       5.0x10^-3Pa

使用环境温度:     <35℃

使用环境湿度:     <75%(相对湿度)不结露

使用环境海拔:     <1500m

外型尺寸:         440x240x260(宽x高x深)不包含真空机组

重量:             约47Kg不包含真空机组